Una vez más la Universidad de Chile se ubica a la vanguardia. El día jueves 27 de mayo se presentó ante la comunidad un Fotómetro de Referencia Patrón Para Ozono, único en Sudamérica.
Este moderno instrumento que ha llegado al Centro Nacional del Medio Ambiente (CENMA) será un gran apoyo y contribución al desarrollo de las políticas medioambientales de nuestro país. Sirve fundamentalmente para generar una gran seguridad en la calidad de las mediciones que se realizan en las emisiones de ozono.
"El Fotómetro aumenta nuestras posibilidades de entregar mejor información al Estado. Nosotros colaboramos de forma permanente con ellos, y este equipamiento nos permite tener información en el largo plazo y de alta calidad", explicó a UChile.online el Director Ejecutivo del Centro Nacional de Medioambiente, Ítalo Serey.
La ventaja de este instrumento para obtener el patrón de ozono significa que nosotros podemos trabajar con investigadores de las diferentes facultades, con investigadores de otras universidades y tener una red de calidad para la mediciones que se hacen respecto del ozono troposférico y todo ese conjunto de mediciones ayudan a la investigación más básica en el caso de la academia, pero también a que el estado tenga información de alta calidad y que le reduce la incertidumbre.
Además, el Director destacó la renovación por la que está pasando el CENMA. "Nosotros estamos en un proceso de incorporar tecnología de punta en el plano medioambiental. Esto se enmarca dentro de varias áreas: analítica, medición del aire, biodiversidad. En todas ellas estamos haciendo inversiones".
Políticas medioambientales
El mundo está en una etapa crítica si nos referimos a los preocupantes índices de contaminación. Ante esto, el Estado ha desarrollado un trabajo en conjunto con el CENMA. Gracias a las investigaciones y mediciones realizadas por la fundación de la Universidad de Chile, la autoridad puede tomar decisiones con información detalla y de alta calidad en la medida gracias a la implementación de tecnología de frontera. La adquisición del SRP es un ejemplo de ello.
"Este es un esfuerzo que esta haciendo el Estado por mejorar el medioambiente. Por eso, también estamos optimizando otras áreas a través de la instalando tecnología de punta para mejorar nuestra calidad y servicio", enfatizó el Director Ítalo Serey.
"Nivel de excelencia"
No es un detalle menor que la Universidad de Chile cuente con tecnología de primer nivel, tan sólo 14 equipos de esta naturaleza existen a en el mundo. Y este es el primero en llegar a Latinoamérica. "CENMA tiene una responsabilidad con el Estado de desarrollar mediciones de calidad. Tenemos un nivel de excelencia en nuestra instrumentación al servir de patrón para el país", concluyó Serey.
De igual forma opina el Dr. Manuel Leiva., Jefe del Laboratorio de Química y Referencia Medioambiental. En su parecer el Fotómetro va a posicionar al CENMA con un centro de referencia a nivel nacional y a nivel internacional.
"Eso da una proyección a las tareas propias de nuestro Centro en apoyo al Gobierno, como este nos apoya a nosotros y a la ciudadanía. Nuestro deber como fundación y como parte de la Universidad es ayudar a todos los chilenos y chilenas a tener un ambiente de mejor calidad para vivir y desarrollarse. Por eso debemos contar con implementación de frontera y de primer nivel", explicó.
Ozono Troposférico
Durante la jornada del jueves 27 de mayo se realizó el seminario "Ozono Troposférico: trazabilisas y comparabilidad de las mediciones". Las primeras ponencias estuvieron a cargo del Dr. Rodrigo Seguel y el Dr. Manuel Leiva.
Titulada "Smog fotoquímico en la macro zona central" la exposición del Dr. Seguel dio cuenta de cómo los niveles de contaminación fotoquímica aumentan en el verano "convirtiéndose en una problemática actual no resuelta y de futuro incierto" debido a que los mayores contaminantes en santiago son por material particulado y por ozono.
No es un problema secundario
En su exposición el Dr. Manuel Leiva explicó los graves efectos de la contaminación por emisiones de ozono.
El ozono trosposférico es considerado un contaminante secundario que se encuentra en la zona más cercana a la superficie y que se forma por la reacción ante los oxidos de nitrógeno e hidrocarburos presentes en el aire. Es el componente más dañino en el smog fotoquímico. Sus nocivos efectos causan daños a la salud y detienen la fotosíntesis perjudicando el crecimiento de las plantas.