Seminario "Arte/Moda: Intersecciones" en MAC Parque Forestal

Los días 25, 26 y 27 de mayo se realizará en el Museo de Arte Contemporáneo (MAC) el seminario Arte/Moda: Intersecciones, un encuentro multidisciplinario en torno al arte y la moda, junto a sus diversos puntos de convergencia y divergencia.

Durante estas tres jornadas del evento, que es organizado por Alexis Carreño, PhD en Historia del Arte de la State University of New York y académico del Departamento de Artes Visuales (DAV), se presentarán ponencias de importantes referentes de la escena nacional, en los ámbitos de la historia, las artes visuales, diseño, joyería, moda, fotografía, etc.; estando la clase magistral inaugural a cargo de la historiadora Pía Montalva.

Además de la actividad en MAC Parque Forestal, se realizará en forma paralela un workshop para estudiantes del DAV de la Universidad de Chile, a cargo de Jorge Castañon, y entre el 23 de mayo al 3 de junio se presentará la exposición Fashion Films en la Sala Juan Egenau de la Universidad de Chile.

El seminario, que se llevará a cabo durante estos tres días entre 17:00 y 20:30 horas en la Sala de Conferencias del MAC Parque Forestal, es de acceso gratuito y sin inscripción. Sin embargo, los cupos son limitados, por lo que se tomará en cuenta el orden de llegada.